File:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

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描述

English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.

日期

1998年三月4日

來源

Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.

作者

Lawrence Livermore National Laboratory

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檔案歷史

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	日期/時間	縮⁠圖	尺寸	用戶	備⁠註
目前	2011年9月22日 (四) 18:19		713 × 605（80 KB）	Bomazi	{{Information \|Description ={{en\|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} \|Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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